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RIE刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。RIE刻蝕機(jī)的原理與激光打標(biāo)機(jī)相同，即通過高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬間氣化...

熱真空試驗(yàn)箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備。近幾年來，熱真空試驗(yàn)設(shè)備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗(yàn)箱由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜，在運(yùn)行中有時會出現(xiàn)一些異?，F(xiàn)象，如果不能及時排除，將延長試驗(yàn)周期，影響產(chǎn)品的研制工作。為此，我們對試驗(yàn)箱的基本工作原理作一些簡要闡述，并介紹如何對熱真空試驗(yàn)箱的一般故障進(jìn)行分析判斷和排除。斷開制冷控制，制冷閥關(guān)閉，檢查真空計(jì)通訊接口有無松動，分子泵轉(zhuǎn)速有無發(fā)生變化，經(jīng)檢查都正常，說明真空機(jī)組的問題可以排除由于低溫降溫階段出現(xiàn)真空...

熱真空試驗(yàn)箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備。近幾年來，熱真空試驗(yàn)設(shè)備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗(yàn)箱由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜，在運(yùn)行中有時會出現(xiàn)一些異?，F(xiàn)象，如果不能及時排除，將延長試驗(yàn)周期，影響產(chǎn)品的研制工作。為此，我們對試驗(yàn)箱的基本工作原理作一些簡要闡述，并介紹如何對熱真空試驗(yàn)箱的一般故障進(jìn)行分析判斷和排除。斷開制冷控制，制冷閥關(guān)閉，檢查真空計(jì)通訊接口有無松動，分子泵轉(zhuǎn)速有無發(fā)生變化，經(jīng)檢查都正常，說明真空機(jī)組的問題可以排除由于低溫降溫階段出現(xiàn)真空...

硅片清洗機(jī)技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。在所有的清洗方式中，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)是效率高、效果的一種，之所以超聲波清洗能夠達(dá)到如此的效果，是與它*的工作原理和清洗方法密切相關(guān)的。我們知道，在生產(chǎn)和生活當(dāng)中，需要清潔的東西很多，硅片清洗機(jī)需要清洗的種類和環(huán)節(jié)也很多，如：物件的清除污染物，疏通細(xì)小孔洞，常見的手工清...

熱真空試驗(yàn)箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備。近幾年來，熱真空試驗(yàn)設(shè)備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗(yàn)箱由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜，在運(yùn)行中有時會出現(xiàn)一些異常現(xiàn)象，如果不能及時排除，將延長試驗(yàn)周期，影響產(chǎn)品的研制工作。為此，我們對試驗(yàn)箱的基本工作原理作一些簡要闡述，并介紹如何對熱真空試驗(yàn)箱的一般故障進(jìn)行分析判斷和排除。熱真空試驗(yàn)箱對故障現(xiàn)象的分析診斷與排除（1）斷開制冷控制，制冷閥關(guān)閉檢查真空計(jì)通訊接口有無松動，分子泵轉(zhuǎn)速有無發(fā)生變化，經(jīng)檢查都正常，說明真空...

在所有的清洗方式中，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)是效率zui高、效果的一種，之所以超聲波清洗能夠達(dá)到如此的效果，是與它*的工作原理和清洗方法密切相關(guān)的。我們知道，在生產(chǎn)和生活當(dāng)中，需要清潔的東西很多，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)需要清洗的種類和環(huán)節(jié)也很多，如：物件的清除污染物，疏通細(xì)小孔洞，常見的手工清洗方法對異型物件以及物件隱蔽處無疑無法達(dá)到要求，即使是蒸汽清洗和高壓水射流清洗也無法滿足對清潔度較高的需求，超聲波清洗對物件還能達(dá)到殺滅細(xì)菌、溶解有機(jī)污染物、防止過腐蝕等，因此，進(jìn)口晶圓清洗機(jī)被日益廣泛應(yīng)...

一般的熱真空試驗(yàn)箱均設(shè)有溫度均勻度參數(shù)：自然對流式的干燥箱為工作溫度上限乘3%，強(qiáng)制對流式的干燥箱為工作溫度上限乘2.5%。惟獨(dú)電熱真空干燥箱不設(shè)溫度均勻度參數(shù)，這是為什么？真空干燥箱內(nèi)依靠氣體分子運(yùn)動使工作室溫度達(dá)到均勻的可能性幾乎已經(jīng)沒有了。因此，從概念上我們就不能再把通常電熱（鼓風(fēng)）干燥箱所規(guī)定的溫度均勻度定義用到真空干燥箱上來。熱真空試驗(yàn)箱注意事項(xiàng)1、儀器外殼必須有效接地，以保證使用安全。2、儀器應(yīng)放在通風(fēng)良好的室內(nèi)水平位置，在其周圍不可放置易燃易爆物品。3、應(yīng)在供電...

RIE-PE刻蝕機(jī)是基于真空中的高頻激勵而產(chǎn)生的輝光放電將四氟化碳中的氟離子電離出來從而獲得化學(xué)活性微粒與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生輝發(fā)性物質(zhì)進(jìn)行刻蝕的。同時為了保證氟離子的濃度和刻蝕速度必須加入一定比例的氧氣生成二氧化碳。RIE-PE刻蝕機(jī)主要對太陽能電池片周邊的P—N結(jié)進(jìn)行刻蝕，使太陽能電池片周邊呈開路狀態(tài)。也可用于半導(dǎo)體工藝中多晶硅，氮化硅的刻蝕和去膠。刻蝕精度主要是用保真度、選擇比、均勻性等參數(shù)來衡量。所謂保真度度，就是要求把光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移到其下的薄膜上,即希望只刻蝕...