NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2023-11-13
訪問量：2075

立即咨詢

聯(lián)系電話：021-62318025

產(chǎn)品詳情

IBM離子銑

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)產(chǎn)品概述：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片，計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。

NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時(shí)，旋轉(zhuǎn)晶圓片以達(dá)到想要的均勻度。

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

14.5”不銹鋼立體離子束腔體
16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動(dòng)不銹鋼遮板
離子束中和器
氬氣MFC
6”水冷樣品臺(tái)
晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM，真空步進(jìn)電機(jī)
步進(jìn)電機(jī)控制晶圓片傾斜
自動(dòng)上下載晶圓片
典型刻蝕速率：銅200 ?/min, 硅：500 ?/min
6”范圍內(nèi)，刻蝕均勻度+/-3%
極限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可達(dá)到10-6Torr級(jí)別（配套500 l/s渦輪分子泵）
配套1000 l/s渦輪分子泵，極限真空可達(dá)8x10-8Torr
磁控濺射Si3N4以保護(hù)被刻蝕金屬表面被氧化
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪問保護(hù)
完整的安全聯(lián)鎖

在線咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說明：
驗(yàn)證碼：

請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕
下一篇：NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

返回列表

91久久精品一区二区喷水喷白浆-国产美女冒白浆免费视频-日韩熟女人妻中文字幕-97人妻精品一区二区三区六

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說明：

驗(yàn)證碼：

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。